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第一百一十章 玻璃光盘(第1页)

黄修远来到鲁省后,一边通过内部的电子邮件,参与总部的一部分科研工作。

科研部有陆学东在,至少很多事情不需要他操心。

同样公司运行上,有林百杰、黄伟常盯着,其实他的工作,主要在大事决策上。

看了陆学东发过来的科研简报。

他摩挲着微微冒出的胡茬,不时写下一些建议,以及相关的研发方向。

目前而言,燧人公司的科技树,可以分成几个核心,即多边氧化硅族的纳米材料合成技术、六锥球氧衍生出来的回收技术、氮16分子的有机高分子分解技术、硅9分子衍生的硅纳米技术。

其中多边氧化硅,是核心中的核心。

各种纳米线的大规模生产,进而促进了纳米线半导体技术的发展,如果不是要求芯片的精度级别,要达到20纳米左右,燧人公司很快就可以拿出芯片生产线。

目前纳米线纺织机的精度,虽然可以达到20纳米附近,问题是生产速度太感人了。

在退而求其次的40纳米级别,已经可以实现工业化生产,只是黄修远没有同意生产,因为这个级别的芯片,还不足以和英特尔、三星、台积电对抗。

要知道发达国家的芯片工艺,在2006年就来到40纳米,明年将提升到32纳米,2011年商业化的鳍型晶体管推出,2012年推出22纳米工艺,2014年研发14纳米工艺,2016年进入10纳米阶段。

黄修远看了看研发进度表,目前20纳米级别的纳米线纺织机,纺织100亿个晶体管,需要138~167天左右。

这个加工时间太久了,必须将速度提升到100亿晶体管,在50天内完成,才可以初步实现大规模量产。

不过黄修远已经下达指示,可以小规模利用40纳米工艺,尝试设计一些简单的芯片,例如电控芯片、温控芯片之类,这些功能单一的工业配件芯片,用40纳米工艺生产,也没有什么问题。

毕竟现阶段国外的高端CPU、GPU之类,还在用40纳米工艺,那些电控芯片之类的工业芯片,大多数用64~80纳米工艺。

就算是这些芯片,短时间内无法上市销售,也可以用来自己使用,反正燧人公司内部的子公司众多,随着智能化时代的逼近,这些专业的工业芯片,需求量同样会越来越庞大。

通过一边自己内部使用,一边完善芯片设计工艺,为未来打下基础。

看了纳米线半导体的相关进度,黄修远又看了下一个项目。

“玻璃存储器?”他有些惊讶,这是半导体实验室的一个研究员,申请的研发项目。

这个叫苗国忠的研究员,设计了一种特殊的玻璃存储器,这种玻璃的核心技术,在于硅9分子中的同分异构体——异硅9分子。

与会形成硅纳米镀层的正硅9分子不一样,异硅9分子本身在紫外激光照射下,和变成硅6分子和三个单独的硅原子。

而异硅9和硅6,两者光反射是不太一样的,异硅9偏向于反射蓝光这个频段,硅6则偏向于反射黄光这个频段。

如此一来,就可以通过激光改变异硅9,形成两种反射光点,实现信息的刻写。

根据苗国忠团队的实验数据,目前他们在实验室中,可以在1平方厘米的面积上,实现86G的数据存储量。

由于复合在玻璃内部,就算是储存几千年,都不会出现数据丢失的情况,如果再加上硅纳米镀层,外力也很难破坏玻璃存储器。

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